2007年3月アーカイブ
大村氏にウメザワ記念賞‐国際化学療法学会が授与
北里研究所所長の大村智氏が、国際化学療法学会から「ハマオ・ウメザワ記念賞」を受賞することが決まった。日本人の受賞は１９８９年の藤井良知氏（元帝京大学）に次いで２人目。授賞式と受賞記念講演は、４月１日にドイツ・ミュンヘン市で開かれる第25回国際化学療法学会総会で行われる。
国際化学療法学会は１９７９年に最高賞である「ＩＳＣ賞」を設立した。同賞は89年から故・梅沢浜夫氏の功績をたたえ、ハマオ・ウメザワ記念賞と名称変更された。日本人の名前が冠されている数少ない国際賞の一つであり、２年に１度、化学療法の発展に寄与した研究者に贈られている（引用：薬事日報）。
花王、ワキガ臭の発生メカニズムを解明など研究成果を発表
花王株式会社（社長・尾崎元規）香料開発研究所は、ワキガ臭（ワキの下に特有のニオイ）の解明を目的に研究を進めてきました。ワキガ臭は主に３種類のニオイ（硫黄臭、スパイシー臭、脂肪酸臭）で構成されていますが、今回、以下を明らかにしました。
（１）ワキガ臭を最も特徴付ける硫黄臭（生臭く鼻をつくニオイ）の発生メカニズムについて、硫黄臭も他のニオイと同様、臭気物質はアミノ酸と結合した状態（無臭）で汗腺から分泌され、これが皮膚の細菌によって分解されてニオイが発生することが明らかになりました。これによりワキガ臭の発生メカニズムの全体像が明らかになりました。
（２）ワキガ臭を引き起こす汗腺分泌物を正確に測定する技術を開発し、メンタルストレスによってワキの下の分泌物が増えてワキガ臭が強まることを、定量的に確認しました(引用：日経プレスリリース)。
なかなか面白い研究ですね。どうやらこのニュースにも書いてあるように、以下のワキガ臭には3種類のニオイの成分があるようです。
1.硫黄臭 ３－メチル－３－スルファニルヘキサン－１－オール
2.スパイシー臭（カレーのスパイスのようなニオイ３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサン酸
3.脂肪酸臭（古い雑巾のようなニオイ）３－メチル－２－ヘキセン酸
1は分子内にチオール基を有するアルコールです。いかにもくさそうですね。2はブタノンへの酢酸ユニットのアルドール体、3はその脱水体です。炭素数の多いカルボン酸は非常にくさいので、たしかにという感じですね。2や3は臭気物質とアミノ酸の一種「グルタミン」が結合した汗腺分泌物が、皮膚の細菌によって分解されて発生と報告されていましたが、1に関してはこの化合物が発生するメカニズムがわかっていませんでした。
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「発明の対価」8億円求め提訴＝塩野義製薬に元社員－大阪地裁
製薬大手、塩野義製薬（大阪市）の元社員渡辺正道さん（59）＝大津市＝が6日、「高脂血症治療薬クレストールの主成分発明に見合う対価が支払われていない」として、同社を相手に約8億7000万円を求める訴えを大阪地裁に起こした。
訴状などによると、渡辺さんは1966年から2003年まで同社に研究員などとして勤務。91年、他の従業員3人と共同でクレストールの主成分「ロスバスタチンカルシウム」を発明した。
塩野義は同成分を含む物質に関する特許を申請し、97年に取得。塩野義から特許の独占的実施権の許諾を得た英アストラゼネカ社が製品開発を進め、日本と欧米でクレストールを発売した。塩野義は04年から06年前半までに計約203億円に上る特許権使用料収入を得たという（引用：時事通信社）。
クレストール（CRESTOR）は高脂血症治療薬です。高脂血症治療薬といえば最も有名なものはファイザーのリピトールですが、そのリピトールと分子構造も非常に類似しています。下の構造式を見ていただければわかると思いますが、リピトールのピロールがピリミジンに、アミド部位がスルホンアミドになっているだけです。リピトールと同様に天然物でなく人工的な合成によって作られています。
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独バイエル、世界全体で6100人を削減へ
ドイツの医薬品・化学大手のバイエルは２日、世界全体で６１００人を削減する計画を発表した。昨年ライバルのシエーリングを買収したことを受け、２００９年から年間７億ユーロ（９億２５００万ドル）前後の削減を目指す計画の一環(引用：朝日新聞)。
バイエルといえばアスピリン。現在では、ヘルスケア、農薬関連、先端素材の3分野を中核事業とし、グループ企業を含め世界150カ国以上、9万3000人を超える社員が働くグローバル企業です。2005年には研究開発に18億8,600万ユーロを投じています。
シエーリング社の買収により2009年から年間７億ユーロの経費削減が見込まれ、その一環として人員削減が始まりました。内訳は欧州地域で3,150名、米国で1,000名、日本およびアジア太平洋地域で750名、そしてラテンアメリカ地域およびカナダでの1,200名を見込んでいます。
IBM，high-k絶縁膜用ハフニウムの特性解析にスパコン「Blue Gene」を活用
米IBMは，高誘電率（high-k）絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で，スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム（HfO2）の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかにした。
このシミュレーションは，スイスのチューリッヒにあるIBMの研究所でスーパーコンピュータ「Blue Gene」を使って実施した。目的について，IBMは「HfO2の特性が，半導体業界で検討されてきたほかのhigh-kより優れている理由を知るため」と説明する（引用：日経BPnet）。
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