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2007年 3月 03日

  1. IBM,high-k絶縁膜用ハフニウムの特性解析にスパコン「Blue Gene」を活用

     米IBMは,高誘電率(high-k)絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で,スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム(HfO2)の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかに…

  2. 「元素戦略プロジェクト」に関する研究開発課題の募集について

     文部科学省と経済産業省は、平成19年度よりそれぞれ「元素戦略プロジェクト」及び「希少金属代替材料開…

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