米IBMは，高誘電率（high-k）絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で，スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム（HfO2）の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかに…
文部科学省と経済産業省は、平成19年度よりそれぞれ「元素戦略プロジェクト」及び「希少金属代替材料開…
2024年の化学企業グローバル・トップ50
グローバル・トップ50をケムステニュースで取り上げるのは定番になっておりましたが、今年は忙しくて発表…
早稲田大学各務記念材料技術研究所「材研オープンセミナー」
早稲田大学各務記念材料技術研究所(以下材研)では、12月13日(金)に材研オープンセミナーを実施しま…
カーボンナノベルトを結晶溶媒で一直線に整列！ – 超分子2層カーボンナノチューブの新しいボトムアップ合成へ –
第633回のスポットライトリサーチは、名古屋大学理学研究科有機化学グループで行われた成果で、井本 大…
第67回「１分子レベルの酵素活性を網羅的に解析し，疾患と関わる異常を見つける」小松徹 准教授
第67回目の研究者インタビューです！ 今回は第49回ケムステVシンポ「触媒との掛け算で拡張・多様化す…
四置換アルケンのエナンチオ選択的ヒドロホウ素化反応
四置換アルケンの位置選択的かつ立体選択的な触媒的ヒドロホウ素化が報告された。電子豊富なロジウム錯体と…
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