米IBMは，高誘電率（high-k）絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で，スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム（HfO2）の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかに…
文部科学省と経済産業省は、平成19年度よりそれぞれ「元素戦略プロジェクト」及び「希少金属代替材料開…
7th Compound Challengeが開催されます！【エントリー〆切：2026年03月02日】 集え、”腕に覚えあり”の合成化学者！！
メルク株式会社より全世界の合成化学者と競い合うイベント、7th Compound Challenge…
乙卯研究所【急募】 有機合成化学分野（研究テーマは自由）の研究員募集
乙卯研究所とは乙卯研究所は、1915年の設立以来、広く薬学の研究を行うことを主要事業とし、その研…
大森 建 Ken OHMORI
大森 建（おおもり けん, 1969年 02月 12日–）は、日本の有機合成化学者。東京科学大学（I…
西川俊夫 Toshio NISHIKAWA
西川俊夫（にしかわ としお、1962年6月1日-）は、日本の有機化学者である。名古屋大学大学院生命農…
市川聡 Satoshi ICHIKAWA
市川 聡（Satoshi Ichikawa, 1971年9月28日-）は、日本の有機化学者・創薬化学…
Copyright © Chem-Station (ケムステ) All rights reserved.
