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IBM,high-k絶縁膜用ハフニウムの特性解析にスパコン「Blue Gene」を活用

 米IBMは,高誘電率(high-k)絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で,スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム(HfO2)の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかにした。

 

 このシミュレーションは,スイスのチューリッヒにあるIBMの研究所でスーパーコンピュータ「Blue Gene」を使って実施した。目的について,IBMは「HfO2の特性が,半導体業界で検討されてきたほかのhigh-kより優れている理由を知るため」と説明する(引用:日経BPnet)。

 

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Chem-Station代表。早稲田大学理工学術院教授。専門は有機化学。主に有機合成化学。分子レベルでモノを自由自在につくる、最小の構造物設計の匠となるため分子設計化学を確立したいと考えている。趣味は旅行(日本は全県制覇、海外はまだ20カ国ほど)、ドライブ、そしてすべての化学情報をインターネットで発信できるポータルサイトを作ること。

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