無臭の芳香族チオールを用いたニトロベンゼンスルホニル基の脱保護反応
野出らはアミノ基の保護基あるいは活性基として利用されているノシル基の新しい脱保護法を報告しています。それによれば，無臭の芳香族チオールである4-メルカプト安息香酸を用いることによりノシル基が選択的に脱保護されています。この脱ノシル化反応は，温和な条件で進行しかつ副生成物の除去が容易な有用な脱保護法です。
M. Matoba, T. Kajimoto, M. Node,?Synth. Communm.,?2008,?38, 1194.
M. Matoba, T. Kajimoto, M. Node,?Synth. Communm.,?2008,?38, 1194.
The following two tabs change content below.
Chem-Station代表。早稲田大学理工学術院教授。専門は有機化学。主に有機合成化学。分子レベルでモノを自由自在につくる、最小の構造物設計の匠となるため分子設計化学を確立したいと考えている。趣味は旅行（日本は全県制覇、海外はまだ２０カ国ほど）、ドライブ、そしてすべての化学情報をインターネットで発信できるポータルサイトを作ること。
最新記事 by webmaster (全て見る)
- １次面接を突破するかどうかは最初の１０分で決まる - 2019年4月16日
- 界面活性剤の市場分析と各社事業戦略について調査結果を発表 - 2019年4月13日
- 米国へ講演旅行にいってきました：Part I - 2019年4月12日
