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P-キラルホスフィン化合物は、特に遷移金属用配位子としての需要が大きい。酸素・水に安定なホスフィンオキシド、ホスフィンスルフィド、ホスフィンボラン錯体を経由して合成されることが一般的である。
中でもホスフィンボラン錯体は、合成容易で結晶性もよく、ボランが穏和な条件で脱保護可能なため重宝される。
ホスフィンボラン錯体は、配位性アミンもしくは強酸条件下に脱保護可能である。条件の穏和さと実用性からDABCOが最もよく用いられる。脱保護は立体保持で進行する。
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