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台湾当局、半導体技術の対中漏洩でBASFの技術者6人を逮捕

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台湾の内政部(内政省)刑事局は7日、半導体製造に使う特殊な化学品の技術を中国企業に漏洩した営業秘密法違反の疑いで、化学品世界大手のドイツ企業、BASFの台湾法人の技術者ら6人を逮捕したと発表した。 (引用:日本経済新聞1月7日)

漏洩したのは半導体の製造工程で使用する高純度のアンモニア水や硫黄化合物などを製造する技術で、技術の価値は1億ユーロ(約120億円)に相当すると報じられています。逮捕された6人のうち1人はBASFの台湾法人の現職技術者でほか5人も同社に勤務した経験があり、報酬は計約2億台湾ドル(約7億円)で、この報酬の一部は実際に支払われていたそうです。

半導体は、シリコンウエハー上に薄膜を成膜したり部分的に削ったりして製造されていますが、その中の表面をきれいに洗浄するステップでアンモニア水は使われます。半導体製造では不純物が性能の低下に直結するため、超高純度の材料が要求されています。その超高純度を出すために各社オリジナルのノウハウがあると思われ、それを技術者が中国の企業に漏洩したと考えられます。実際この技術は中国の化学品大手、江陰江化微電子材料(江蘇省)が最近、新工場を立ち上げた際に使われたとみられています。

BASFはこの高品質なアンモニア水を、半導体製造大手であるマイクロン・テクノロジーSKハイネックスTSMCなどに供給していて、昨年の12月には、韓国に新たなアンモニア水の製造の工場を開設したと報じられています。このように単純なアンモニア水でも高純度の製造技術には1億ユーロの価値があるということのようです。

BASFの電子材料基礎化学品、無機系材料のラインナップ(引用:BASFHP)EGはエレクトロニック・グレードの略

日本では、サンディスクの技術者が韓国のSKハイネックスに研究データを不正に提供した事件が有名です。化学分野でも国内の同業他社への技術漏洩事件が昨年発生していて、日本で技術を漏洩すると、不正競争防止法違反に問われ、漏洩した個人には、10年以下の懲役または2000万円以下の罰金が、法人には10送円の罰金が科せられます。国外に漏洩した場合には、国外重罰規定により罰金額が増額され個人で最高額3000万円、法人で10億円の罰金となるようです。

近年、転職が活発になり、同業他社に転職する技術者も増えていると予想されますが、前社の技術や顧客の情報を漏らすと取り返しのつかないことになります。また、本ニュースのような中国企業への技術漏洩ですが、モノづくりは中国で行われていても、そのモノづくりで使われる製造機器と材料は、品質の高い日本製であることも少なくないようです。中国としては、なるべく材料も中国で製造したいと思うのは自然であり、その一端がこのBASFの事件だと思います。同様の事件が日本で頻繁に起きるとは考えにくいですが、Linkedinといったビジネスに特化したSNSで特定社員を探してコンタクトことも可能であり、情報漏洩は技術者として注意すべきことではないでしょうか。

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